產品詳情
  • 產品名稱:雙靶磁控濺射及蒸發複合鍍膜儀

  • 產品型號:TN-MS500S-2TA1S
  • 產品廠商:红杏成版人下载
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簡單介紹:
雙靶磁控濺射及蒸發複合鍍膜儀將磁控濺射技術和真空蒸發技術結合在同一鍍膜設備,雙靶磁控濺射及蒸發複合鍍膜儀可用於電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品。
詳情介紹:

TN-MS500S-2TA1S雙靶磁控濺射及蒸發複合鍍膜儀主要由不鏽鋼真空腔體、磁控濺射靶,蒸發鍍膜裝置,放置樣品的樣品台,真空泵機組、真空測量規管,進氣係統和控製係統組成。

設備主機采用觸摸顯示屏操作,溫控表檢測。其數字化參數界麵和自動化操作方式為用戶提供了優良的研發平台。真空腔體采用304不鏽鋼製成,配有觀察窗口及擋板。造型美觀做工精細,真空性能優異。主要密封法蘭采用 CF係列高真空密封法蘭。真空腔體各接口均采用橡膠密封圈密封,真空性能優良,能有效保證鍍膜質量真空室采用下置靶設計,樣品台具有加熱和旋轉但是功能,可以使鍍膜效果更加均勻。設備真空獲得係統采用兩級真空泵組,前級泵為大抽速機械泵,有效縮從常壓至低真空的時間,主泵為渦輪分子泵,抽速高,真空獲取速度更快。 整體真空獲得係統幹淨快速。

特點

1.磁控濺射 熱蒸發 多功能切換鍍膜

2.靶材下置 樣品台旋轉

3.兩級真空分子泵,抽速高真空獲取速度快

4.觸屏數據化操作界麵

應用領域

可用於電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM(掃描電鏡)的樣品製備。

名稱

磁控濺射蒸發二合一真空PVD鍍膜儀

型號

TN-MS500S-2TA1S

品台

  • 尺寸 150mm 加熱溫度 ≤500℃
  • 旋轉速度 1-20r/min 控溫精度 ±1℃
磁控濺射頭
  • 數量 2英寸 x2 冷卻方式 水冷
蒸發係統
  • 蒸發源 鎢絲籃 *高溫度 1500℃
  • 熱電偶 S型熱電偶

真空腔體

  • 腔體尺寸 φ300mm X 300mm 觀察窗口 φ100mm
  • 腔體材料 304不鏽鋼 開啟方式 前開門式

電源配置

  • 直流電源數量 1台 輸出功率 ≤1000W
  •  輸出電壓 ≤600W 響應時間 <5ms
  •  射頻電源數量 1台 輸出功率 ≤1000W
  •  功率穩定度 ≤5W
  • 射頻功率 13.56MHz 射頻穩定度 ±0.005%
膜厚監控係統
  • 膜厚儀測量分辨率 ±0.03Hz 測量精度 ±0.5%
  • 測量上限 50000 測量速度 100~1000ms
水冷係統
水箱容積 9L 流量 10L/min
供氣係統
質量流量計 量程 200sccm, 氣體類型 Ar氣
其他
供電電壓 AC220V,50Hz 整機尺寸 1400x750x1300mm
整機功率 4kw(主機+真空泵) 整機重量 295kg