產品詳情
  • 產品名稱:小型雙靶磁控濺射鍍膜儀

  • 產品型號:TN-MSP210S-RFDC
  • 產品廠商:红杏成版人app
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簡單介紹:
小型雙靶磁控濺射鍍膜儀設備配有一個直流電源一個射頻電源,直流靶可用於金屬及其他導電材料的濺射,射頻電源可用於各種非金屬和金屬氧化物等的濺射,小型雙靶磁控濺射鍍膜儀用全進口真空泵,抽氣速度快,極限真空度高。
詳情介紹:

TN-MSP210S-RFDC小型雙靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計,在保留高真空不鏽鋼腔體的同時,精簡了其他機構,將設備外形限製在了實驗室級別,大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源一個射頻電源,直流靶可用於金屬及其他導電材料的濺射,射頻電源可用於各種非金屬和金屬氧化物等的濺射。設備真空係統采用全進口真空泵,抽氣速度快,極限真空度高,真空性能優異。本設備結構緊湊功能完善便於使用,非常適合用於各類鍍膜試驗。

 

桌麵型雙靶磁控鍍膜儀

樣品台

尺寸

φ150mm

加熱

*高500

轉速

0-20可調

 

 

磁控濺射靶

數量

2” x2  雙靶共用一擋板

 

 

真空腔體

腔體尺寸

φ210mm X 230mm 

觀察窗口

φ40mm

腔體材料

SS304不鏽鋼

開啟方式

前開門式

真空係統

機械泵

進口無油隔膜泵

抽氣接口

KF16

分子泵

進口分子泵

抽氣接口

KF40

真空測量

電阻規+電離規

排氣接口

KF16

極限真空

1.0E-3Pa

供電電源

AC 220V 50/60Hz

抽氣速率

無油泵 0.49L/s 分子泵:40L/S

電源配置

數量

直流電源 x1 射頻電源x1

*大輸出功率

直流電源500W 射頻電源500W

 

其他

供電電壓

AC220V,50Hz

整機尺寸

550mm X 550mm X1100mm

整機功率

2kW