產品詳情
  • 產品名稱:等離子加強化學沉積PECVD鍍膜儀

  • 產品型號:TN-PECVD-450
  • 產品廠商:红杏视频下载安装黄
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簡單介紹:
等離子加強化學沉積PECVD鍍膜儀能夠利用高能量等離子體促進反應過程,有效提升反應速度,降低反應溫度,等離子加強化學沉積PECVD鍍膜儀適用於製備非晶矽和微晶矽薄膜太陽電池器件
詳情介紹:
TN-PECVD-450化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術,能夠利用高能量等離子體促進反應過程,有效提升反應速度,降低反應溫度。適用於在光學玻璃、矽、石英以及不鏽鋼等不同襯底材料上沉積氮化矽、非晶矽和微晶矽等薄膜,成膜質量好,針孔較少,不易龜裂,適用於製備非晶矽和微晶矽薄膜太陽電池器件,可廣泛應用於大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量製備。

名稱
PECVD鍍膜儀
型號
TN-PECVD-450
特點
  • 能夠利用高能量等離子體促進反應過程,有效提升反應速度,降低反應溫度
  • 適用於在光學玻璃、矽、石英以及不鏽鋼等不同襯底材料上沉積
  • 成膜質量好,針孔較少,不易龜裂,適用於製備非晶矽和微晶矽薄膜太陽電池器件
技術參數
  • 真空腔體    前開門式,φ300mm X 300mm 不鏽鋼材質
  • 觀察窗:φ100mm 帶擋板
  • 真空泵組    前級泵:旋片泵 抽速1.1L/s,次級泵:渦輪分子泵 抽速600L/s
  • 極限真空度    10-6Pa,三十分鍾內可達到 10-4Pa
  • 沉積真空    0.133~133Pa,可根據工藝調整
  • 射頻電源    13.56MHz,500W,自動匹配
  • 流量控製    質量流量計,默認 Ar氣 0~200sccm
規格
整機尺寸    1100mm x 800mm x1100mm