產品詳情
  • 產品名稱:磁控濺射蒸發二合一真空PVD鍍膜儀

  • 產品型號:TN-MSE300S-DC
  • 產品廠商:其它品牌
  • 產品文檔:
你添加了1件商品 查看購物車
簡單介紹:
磁控濺射蒸發二合一真空PVD鍍膜儀將磁控濺射技術和真空蒸發技術結合在同一鍍膜設備,該磁控濺射蒸發二合一真空PVD鍍膜儀應用於手機殼等塑料表麵金屬化,不導電膜和電磁屏蔽膜沉積
詳情介紹:

TN-MSE300S-DC磁控濺射蒸發二合一真空PVD鍍膜儀將磁控濺射技術和真空蒸發技術結合在同一鍍膜設備裏,既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺出並部分離化沉積在基材上成膜,同時又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融並讓其汽化再沉積在基材上成膜。增加了設備的用途和靈活性。該設備應用於手機殼等塑料表麵金屬化,應用於不導電膜和電磁屏蔽膜沉積。

特點

等離子體處理裝置,高效磁控濺射陰極和電阻蒸發裝置等,設備沉積速率快,鍍層附著力好;

該機實現鍍膜工藝全自動化控製,裝載量大,工作可靠,合格率高,生產成本低,綠色環保。

應用領域

該設備主要廣泛應用於電腦殼、手機殼、家用電器等行業,可鍍製金屬膜、合金膜、複合膜層、透明(半透明)膜、不導電膜、電磁屏蔽膜等。

名稱

磁控濺射蒸發二合一真空PVD鍍膜儀

型號

TN-MSE300S-DC

品台

  • 樣品台尺寸φ185mm,控溫精度±1℃,轉速1-20rpm可調
  • 濺射電流2~20mA,濺射電壓1000V
  • 蒸發源鎢絲籃,*高溫度1700℃
  • 程控控溫 可設置30段升降溫程序,控溫精度為+/-1℃

真空腔體

  • 腔體尺寸φ300mm × 300mm,觀察窗口φ100mm
  • 腔體材料不鏽鋼,開啟方式上頂開式

膜厚儀

  • 電源DC   5V(±10%),*大電流400mA
  • 頻率分辨率±0.03Hz
  • 膜厚分辨率0.0136Å(鋁)
  • 膜厚準確度±0.5%,取決於過程條件,特別是傳感器的位置,材料應力,溫度和密度
  • 測量速度100ms-1s/次,可設置
  • 測量範圍500000Å(鋁)
  • 標準傳感器晶體6MHz

質量流量計

2路;量程100sccm;100sccm(可根據客戶需要定製多路氣路)

真空係統

  • 產品型號TN-GZK103-A,抽氣接口KF40
  • 分子泵TN-600,排氣接口KF16
  • 前極泵:旋片泵
  • 真空測量複合真空計
  • 極限真空1.0E-5Pa
  • 供電電源AC;220V 50/60Hz
  • 抽氣速率分子泵:600L/S  旋片泵:1.1L/S  綜合抽氣性能:20分鍾真空度可達: 1.0E-3Pa
可選配件
金、銦、銀、白金等各種靶材
質保
一年保修,終身技術支持。