產品詳情
  • 產品名稱:帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀

  • 產品型號:
  • 產品廠商:其它品牌
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簡單介紹:
帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀可用於製備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜,該帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀添加偏壓電場,增強離子的能量,提高成膜質量和薄膜的附著力
詳情介紹:

帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀

我公司研發的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀,可用於製備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等。磁控濺射相較於普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優點,鍍膜速率高,樣品溫升低,是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層,水冷機能夠有效的帶走熱量,避免熱量在靶麵聚集,使磁控鍍膜能長時間穩定工作。除此之外本設備還配有偏壓電源,能夠在靶材和樣品台間添加偏壓電場,增強離子的能量,提高成膜質量和薄膜的附著力。整機均采用觸控屏控製,內置一鍵式鍍膜程序,操作簡單易上手,是一款實驗室製備薄膜的理想設備。



名稱

帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀

特點

  • 鍍膜速率高,樣品溫升低,典型的高速低溫濺射
  • 偏壓電源增強離子的能量,提高成膜質量和薄膜的附著力
  • 觸控屏控製,內置一鍵式鍍膜程序,操作簡單易上手

技術

  • 供電電壓: AC220V,50Hz
  • 整機功率3KW
  • 極限真空度10-6torr
  • 載樣台參數: 尺寸 φ140mm; 加熱溫度 *高500℃; 控溫精度 ±1℃; 轉速 1-20rpm可調
  • 磁控濺射頭:2個2”磁控濺射頭; 水冷水冷機規格 10L/min流速的循環水冷機
  • 真空腔體尺寸 φ300mm X 300mm H,不鏽鋼
  • 觀察窗口φ100mm
  •  開啟方式: 上頂開式,便於更換靶材
  • 氣體流量控製器: 2路分別通Ar,N2; 量程均為0-100sccm
  • 真空泵配有一套分子泵係統,抽速600L/S
  • 膜厚儀: 石英振動薄膜測厚儀一台,分辨率0.10 Å
  • 濺射電源直流電源一台,1000W,適用於製備金屬膜射頻電源一台,500W,適用於非金屬鍍膜
  • 操作方式 麵板按鈕操作

規格

 尺寸:1400mm X 750mm X 1300mm;重量:300kg