產品詳情
  • 產品名稱:雙靶磁控濺射鍍膜儀(雙膜厚儀)

  • 產品型號:TN-MSP300S-2RF-2FG
  • 產品廠商:红杏网站污视频
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簡單介紹:
雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定製化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇,客戶可以根據所鍍基板的大小自主選購。
詳情介紹:

雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定製化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇,客戶可以根據所鍍基板的大小自主選購;所配電源為300W射頻電源加500W直流電源,直流電源可用於金屬薄膜的製備,射頻電源可用於非金屬膜的製備,兩個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶有其他鍍膜需要,可以定製直流電源和脈衝電源,各型電源均有300W1000W多種規格可選。

鍍膜儀具有兩路高精度質量流量計,客戶若另有需求可以定製至多四路質量流量計的氣路,以滿足複雜的氣體環境構建需求;儀器標配先進的渦輪分子泵組,極限真空可達10E-5Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購。

另外本型號配置配有兩個高精度膜厚儀,能夠滿足鍍膜過程中膜厚檢測需要,若客戶有需要安裝多個膜厚儀的需要也可以和我公司技術人員進行定製。

本產品可以選配一體機工控電腦對係統進行控製,在電腦程序上可以實現真空泵組的控製、濺射電源的控製等絕大多數功能,可以進一步提高您的實驗效率。

雙靶磁控濺射鍍膜儀用途:

該設備可用於製備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便於操作的優點,是一款實驗室製備材料薄膜的理想設備。

雙靶磁控濺射鍍膜儀技術參數:

雙靶磁控濺射鍍膜儀(雙膜厚儀)

樣品台

尺寸

φ185mm

控溫精度

±1

 

加熱溫度

*500

轉速

1-20rpm可調

磁控濺射頭

數量

2” ×2 1”,2”可選)

水冷機規格

10L/min流速的循環水冷機

 

冷卻方式

水冷

 

 

真空腔體

腔體尺寸

φ300mm × 300mm

觀察窗口

φ100mm

 

腔體材料

不鏽鋼

開啟方式

上頂開式

質量流量計

2路;量程100sccm100sccm(可根據客戶需要定製多路氣路)

真空係統

產品型號

TN-GZK103-A

抽氣接口

KF40

 

分子泵

TN-600

排氣接口

KF16

 

前極泵

旋片泵

真空測量

複合真空計

 

極限真空

1.0E-5Pa

供電電源

AC;220V 50/60Hz

 

抽氣速率

分子泵:600L/S  旋片泵:1.1L/S  綜合抽氣性能:20分鍾真空度可達: 1.0E-3Pa

電源配置

數量

射頻電源x2 

*大輸出功率

射頻電源300W 

 

其他

供電電壓

AC220V,50Hz

整機尺寸

600mm × 650mm × 1280mm

 

整機功率

2.5KW

整機重量

300kg


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