產品詳情
  • 產品名稱:雙靶射頻磁控濺射鍍膜儀

  • 產品型號:TN-MSP300S-2RF
  • 產品廠商:红杏视频免费破解版
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簡單介紹:
雙靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發,雙靶射頻磁控濺射鍍膜儀兩個300W射頻電源,射頻電源可用於非金屬薄膜的製備,兩個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。
詳情介紹:

TN-MSP300S-2RF 雙靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定製化的特點。可用於製備單層或多層陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便於操作的優點,是一款實驗室製備材料薄膜的理想設備

特點:

1. 磁控靶1英寸2英寸可以選擇,客戶可以根據所鍍基板的大小自主選購;
2. 兩個射頻電源,300w-1000W射頻電源可用於非金屬薄膜的製備,兩個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。
3. 高精度質量流量計,客戶若另有需求可以定製至多四路質量流量計的氣路,以滿足複雜的氣體環境構建需求;
4. 渦輪分子泵組,極限真空可達10E-5Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控製,可以實現在不關泵的情況下打開腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。
5.一體機工控電腦對係統進行控製,在電腦程序上可以實現真空泵組的控製、濺射電源的控製等絕大多數功能,可以進一步提高您的實驗效率。

技術參數:

型號

TN-MSP300S-2RF

供電電壓

AC220V,50Hz

整機功率

6KW

極限真空度

5*10-4Pa

樣品台

尺寸:φ150mm

加熱溫度:500℃ max.;控溫精度:+-1℃

轉速:1-20rpm 可調節

磁控濺射頭

尺寸:2英寸,數量:2;冷卻方式:水冷 所需流速10L/min 

水冷機:10L/min 循環水冷

真空腔體

尺寸:φ300mm*340mm;材料:不鏽鋼

觀察窗:φ100mm;開啟方式:上頂開啟,便於更換靶材

氣體流量控製

1路,200sccm ,Ar

真空泵

分子泵組,抽速600L/S

濺射電源

兩台 射頻電源 500-1000W 可選

膜厚儀

石英振動薄膜測厚儀一台,分辨率0.10 Å

操作方式

一體機電腦操作

整機尺寸

1090mm X 900mm X 1250mm

整機重量

350kg

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