產品詳情
  • 產品名稱:單靶射頻磁控濺射鍍膜儀

  • 產品型號:TN-MSP300S-RF
  • 產品廠商:红杏成版人app
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簡單介紹:
單靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,單靶射頻磁控濺射鍍膜儀可用於非金屬膜、光學膜的濺射,根據實驗需求也可以選配其他規格的直流或者射頻電源來實現各種材料的鍍膜操作。
詳情介紹:
TN-MSP300S-RF 單靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定製化的特點。磁控靶有1英寸2英寸3英寸可以選擇,客戶可以根據所鍍基板的大小自主選擇;所配電源為300W射頻電源,可用於非金屬膜、光學膜的濺射,根據實驗需求也可以選配其他規格的直流或者射頻電源來實現各種材料的鍍膜操作。

鍍膜儀具有兩路高精度質量流量計,客戶若另有需求可以定製至多四路質量流量計的氣路,以滿足複雜的氣體環境構建需求;儀器標配先進的渦輪分子泵組,極限真空可達10E-5Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控製,可以實現在不關泵的情況下打開腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產品可以選配一體機工控電腦對係統進行控製,在電腦程序上可以實現真空泵組的控製、濺射電源的控製等絕大多數功能,可以進一步提高您的實驗效率。


用途單靶射頻磁控濺射鍍膜儀可用於製備單層或多層陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便於操作的優點,是一款實驗室製備材料薄膜的理想設備,特別適用於實驗室研究固態電解質及OLED等。


產品名稱
單靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)
產品型號
TN-MSP300S-RF
特點
  • 自主研發、高性價比
  • 標準尺寸磁控濺射頭,1英寸2英寸3英寸可選
  • 300W射頻電源非金屬膜、光學膜
  • 兩路高精度質量流量計
  • 渦輪分子泵組,極限真空可達10E-5Pa
  • 電腦智能編程控製
參數
  1. 1、樣品台:尺寸φ185mm;  加熱溫度 maxtemp:500℃;控溫精度:±1℃;轉速:1-20rpm可調
  2. 2、磁控濺射頭:2” ×1 (1”,2”,3”可選)10L/min流速的循環水冷 
  3. 3、真空腔體:尺寸:φ300mm × 300mm 材料:不鏽鋼、上頂開式, 觀察窗口:φ100mm
  4. 4、質量流量計:2路;量程100SCCM;100SCCM(可根據客戶需要定製多路氣路)
  5. 5、真空係統:產品型號TN-GZK103-A     供電電源:AC;220V 50/60Hz
                                   分子泵:TN-600;前極泵:旋片泵
                                   抽氣速率:分子泵600L/S  旋片泵1.1L/S  綜合抽氣性能:20分鍾真空度可達: 1.0E-3Pa
                                   極限真空:1.0E-5Pa                                
                                   抽氣接口:KF40;排氣接口:KF16

                                   真空測量:複合真空計

  1. 6、電源配置:射頻電源 ×1;max輸出功率300W
規格
尺寸:600mm × 650mm × 1280mm重量:300kg ;電壓:AC220V,50Hz;功率:2KW


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