產品詳情
  • 產品名稱:小型單靶磁控濺射鍍膜儀

  • 產品型號:TN-MSP180G-DC
  • 產品廠商:红杏视频免费破解版
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簡單介紹:
小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有小型化、標準化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇,該小型單靶磁控濺射鍍膜儀所配電源為500W直流電源,可用於金屬濺射鍍膜。
詳情介紹:

TN-MSP180G-DC小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有小型化、標準化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇,客戶可以根據所鍍基板的大小自主選擇;所配電源為500W直流電源,可用於金屬濺射鍍膜。


適用範圍:小型單靶磁控濺射鍍膜儀可用於製備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,經過小型化設計,高度集成,體積小巧,可以放置於桌麵上使用,是一款實驗室製備材料薄膜的理想設備,特別適用於實驗室研究固態電解質及OLED等。


名稱
小型單靶磁控濺射鍍膜儀
TN-MSP180G-DC
  • 自主研發、高性價比
  • 結構緊湊可放置於桌麵
  • 1英寸或2英寸,標準尺寸磁控靶
  • 500W直流電源,金屬濺射鍍膜
參數
  1. 1、旋轉加熱樣品台:尺寸φ138mm;加熱溫度:max temp:500℃;控溫精度:±1℃;轉速:1-20rpm可調
  2. 2、磁控濺射頭:數量2” ×1(1”,2”可選)  10L/min流速的循環水冷
  3. 3、真空腔體:尺寸:φ180mm × 215mm、材料高純石英、全向透明、頂蓋拆卸式4、
  4. 4真空係統:產品型號TN-GZK103-A     
  5. 分子泵 TN-600     前極泵:旋片泵  
                  抽氣速率:分子泵:600L/S;旋片泵:1.1L/S(  綜合抽氣性能:20分鍾真空度可達:1.0E-3Pa) 

                  供電電源:AC220V 50/60Hz

                  抽氣接口:KF40; 排氣接口:KF16

                  真空測量複合真空計:電阻規+電離規
                  極限真空:1.0E-5Pa  
  6. 5電源配置:直流電源 ×1;max輸出功率:150W
         
規格
尺寸:500mm × 350mm × 400mm;重量30kg ;電壓:AC220V,50Hz;功率:1.7KW(真空泵組1.5KW+本機0.2KW)
注意:鍍膜儀配有通氣接口,可以通入保護性氣體,若客戶需要通入混合氣體,可以聯係工作人員自行配置高精度質量流量計以滿足實驗需要。儀器標配先進的渦輪分子泵組,極限真空可達10E-5Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購。


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