產品詳情
  • 產品名稱:四路質子混氣管式pecvd係統

  • 產品型號:TN-O1200-60-4CLV-PE
  • 產品廠商:红杏网站污视频
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簡單介紹:
等離子體增強型化學氣相沉積(PECVD)技術是借助於輝光放電(等離子體)使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應,從而實現薄膜生長的一種製備技術。我公司綜合了多項實驗要求設計生產了四路質子混氣管式pecvd係統,能廣泛適應各類薄膜研究的需要比如:石墨烯製備、C納米材料製備、氧化物製備。四路質子混氣管式pecvd係統一款****的薄膜製備器材
詳情介紹:

○ 產品介紹

等離子體增強型化學氣相沉積(PECVD)技術是借助於輝光放電(等離子體)使含有薄膜組成的氣態物質發生化學反應,從而實現薄膜生長的一種製備技術。我公司綜合了多項實驗要求設計生產了四路質子混氣管式pecvd係統,能廣泛適應各類薄膜研究的需要比如:石墨烯製備、C納米材料製備、氧化物製備。是一款****的薄膜製備器材


○ 適用範圍

能廣泛適應各類薄膜研究的需要比如:石墨烯製備、C納米材料製備、氧化物製備。是一款****的薄膜製備器材


○ 技術參數

產品特點

與普通的CVD係統相比,因為有等離子源的介入,係統的沉積溫度相對較低。配備有滑軌式管式爐可以輕鬆實現快速降溫,實現快速退火。操控界麵可配備液晶操作係統,圖文顯示,直觀易懂,對於設備的使用操作簡單易學該係統較高工作溫度接近1150℃,能滿足大多數熱處理場合。該設備可具體用於:碳、ZnO納米管或納米線的製備也可以用於製備單層石墨烯以及各種CVD實驗。

等離子發生器

輸出功率:5~500W±1%.射頻頻率:13.56 MHz±0.005%.反射功率:較大約200W阻抗匹配:自動

真空泵機組

雙極旋片泵,極限真空0.1PaKFD25快接,不鏽鋼波紋管,手動擋板閥與法蘭,真空泵相連.管內真空可達1Pa可選:本公司進口的防腐型數字式真空顯示計,其測量範圍為3.8x10-5至1125 Torr.不需因測量氣體種類不同而需要係數轉換。(需要另外計算費用

質量流量計

三通道的質量流量計(精度0.02%):數字顯示,自動控製.MFC 1範圍:0~100 sccmMFC 2和3:0~500 sccm一個混氣罐,底部裝有泄廢液口.進氣接口:1/4NPS.出氣接口:1/4NPS.

水冷係統

水冷法蘭要求:水流量>=10L/M,配有專業水冷機組。

管式爐

爐管直徑:80mm爐管長度:1400mm爐膛長度:440mm控溫精度:±1℃工作溫度:≦1200℃



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