鍍膜設備
  • 三靶射頻磁控濺射鍍膜儀 三靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定製化的特點。三靶射頻磁控濺...
  • 三靶磁控濺射鍍膜儀(DC&... 三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定製化的特點。磁控靶有1英寸2英...
  • 雙靶磁控濺射鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀CY-600-2HD為我公司研發的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀,可用於製備單層或多層鐵電薄膜、導電...
  • 磁控濺射鍍膜儀 此款磁控濺射鍍膜儀是依據二級(DC)直流濺射原理設計而成的*簡單、可靠、經濟的鍍膜設備,適用於實驗室各種複合膜樣品的製備...
  • 三靶磁控濺射鍍膜儀 TN-600-3HD三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研製開發的一款性價比較高的磁控濺射鍍膜儀,可用於製備單層或多層鐵電薄膜...
  • 單靶磁控濺射鍍膜儀 本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源)。...
  • 單靶等離子濺射儀(基礎版) 單靶等離子濺射儀(基礎型)采用二極濺射方式,廣泛用於場發射掃描電鏡或透射電鏡樣品製備或高質量鍍膜試驗。該單靶等離子濺射儀...
  • 單靶等離子濺射鍍膜儀(標準... 單靶等離子濺射鍍膜儀(標準版)配有旋轉樣品台,能夠有效的提升鍍膜的均勻性​。該單靶等離子濺射鍍膜儀(標準版)可用於金屬濺...
  • 上一頁下一頁